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最后更新：2026-03-31
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生產企業：上海浦匯光電技術有限公司
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產品詳細介紹1. 產品概述
Optris PI 1M 是一款基于短波紅外（SWIR）技術的非接觸式熱成像設備，專為高溫及高反射率材料的表面溫度監測而設計。該設備工作光譜范圍為 0.85 – 1.1μm，特別適用于金屬冶煉、陶瓷燒結及半導體晶圓處理等工業場景。
2. 核心技術原理
針對金屬及光亮表面材料，傳統長波紅外熱像儀常因低發射率導致測量偏差。PI 1M 依據普朗克輻射定律，利用短波波段特性：在高溫條件下，金屬材料在 1μm 波長的發射率顯著高于長波波段，且輻射能量隨溫度變化呈線性增長。這一物理特性有效解決了高反光表面測溫難的問題，確保了數據的重復性與準確性。
3. 硬件與性能參數
探測器規格：搭載高動態 CMOS 探測器，標準分辨率為 764 x 480 像素，提供清晰的熱圖像細節。
測溫范圍：寬域覆蓋 450°C 至 1800°C，無需切換量程即可連續測量。
響應速度：具備極高的時間分辨率，傳感器電子快門最短可達 1 毫秒，適合捕捉快速熱瞬變過程。
幀率模式：
全畫幅模式（764 x 480 px）：32 Hz，適用于靜態或慢速過程的高精度成像。
窗口裁切模式（382 x 288 px）：80 Hz，平衡了速度與分辨率。
高速模式（72 x 56 px）：1 kHz，適用于極高動態過程的監控。
線掃描模式（764 x 8 px）：1 kHz，專為連續生產線（如帶材、線纜）的溫度分布監測設計。
4. 接口與軟件集成
設備配備 USB 2.0 接口，支持與上位機實時通信。配套的 PIX Connect 軟件開發工具包（SDK）支持二次開發，提供線掃描數據拼接、熱圖像處理及溫度數據分析功能，便于集成至自動化控制系統中。
5. 環境適應性與擴展
為適應嚴苛的工業現場，PI 1M 提供多種防護選件：
水冷套件：可將設備工作環境溫度上限擴展至 315°C。
吹掃接口：支持接入清潔氣體以防止鏡頭污染，確保在粉塵或蒸汽環境下的測量連續性。
6. 典型應用領域
該設備廣泛應用于金屬加工行業的溫度場分析、激光材料處理過程監控、高溫爐窯內襯監測以及半導體制造中的晶圓熱處理工藝驗證。
Optris紅外熱像儀生產廠家：https://www.shphgd.com/
產品鏈接：https://www.shphgd.com/products_details_id_15.html |
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| 會員級別：免費會員 |
| 加入時間：2026-03-27
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